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日企放豪言:濺射技術將徹底改變鈣鈦礦電池業(yè)
日期:2023-04-26   [復制鏈接]
責任編輯:sy_chenglingyan 打印收藏評論(0)[訂閱到郵箱]
作為對抗全球變暖擔憂的一部分,不依賴化石燃料的能源成為此次會議的主要話題。此外,人們對太陽能電池也有很高期待。

引起特別關注的鈣鈦礦太陽能電池(PSC)在市場上需求特別高,成為新一代太陽電池。

鈣鈦礦是電池中非常精細的有機層組成的結(jié)構,而使用干燥濺射法的傳統(tǒng)技術在沉積時會損壞透明導電氧化物(TCO)薄膜,導致有機層降解,從而無法實現(xiàn)所需的設備性能。對于透明導電氧化物來說,很難利用濺射沉積法。

近日,來自日本的京浜樂夢株式會社(KEIHIN RAMTECH)宣布成功開發(fā)了在四面相向濺射法中實現(xiàn)高品質(zhì)成膜的RAM陰極產(chǎn)品。

據(jù)介紹,RAM FORCE濺射的優(yōu)點,改進了鈣鈦礦太陽能電池的濺射沉積特性。

KEIHIN RAMTECH表示,RAM FORCE結(jié)構獨特,通過四面對向靶材和磁場布置實現(xiàn)了低損傷沉積,在PSC上進行TCO沉積,與平面濺射設備相比,作為損傷指標的載體壽命提高了約30%。因此利用其低損傷性實現(xiàn)了低損傷沉積。

通過利用低損傷的濺射特性,PSC代表電池特性的曲線因子——填充因子(FF)達到75%以上。它已經(jīng)開始用于研發(fā)應用和試點線路。

此外,RAM FORCE支持低于60℃(ITO: 100 nm)的低溫沉積,因此適用于柔性基材上的濺射沉積。

RAMTECH還專注于其他應用,如對于PSC的空穴輸運層(HTL),可以使用NiOx層代替目前使用的Spiro-OmetaD等有機層,實現(xiàn)低損傷濺射沉積和低電阻。

另外,通過改變沉積工藝條件,NiOx也可以作為電子傳遞層(ETL)沉積,使使用相同的材料實現(xiàn)HTL和ETL沉積成為可能,從而提高性能,降低成本。 

原標題:日企放豪言:濺射技術將徹底改變鈣鈦礦電池業(yè)
 
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來源:PV-Tech
 
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