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N型HJT儲(chǔ)能電池:降本利器
日期:2023-09-07   [復(fù)制鏈接]
責(zé)任編輯:sy_wangtian 打印收藏評(píng)論(0)[訂閱到郵箱]
N型HJT儲(chǔ)能電池又稱HIT電池(三洋核心專利期間名稱),HIT電池最早由日本三洋公司于1990年成功開(kāi)發(fā),因HIT已被三洋注冊(cè)為商標(biāo),因此又被稱為HJT、HDT、或SHJ(Silicon Heterojunction),當(dāng)時(shí)轉(zhuǎn)換效率可達(dá)到14.5%(4mm2的電池),后來(lái)在三洋公司的不斷改進(jìn)下,三洋HJT電池的轉(zhuǎn)換效率于2015年已達(dá)到25.6%。2015年三洋的HJT專利保護(hù)結(jié)束,技術(shù)壁壘消除,是我國(guó)大力發(fā)展和推廣HJT技術(shù)的大好時(shí)機(jī)。HJT電池是由晶硅材料和非晶材料形成,在晶體硅上形成非晶體薄膜,并通過(guò)特殊技術(shù)讓P型和N型半導(dǎo)體構(gòu)成一種特殊的PN結(jié),本身屬于N型電池的一種,是單晶雙面電池,具有工藝簡(jiǎn)單、發(fā)電量高、度電成本低的優(yōu)勢(shì),可能會(huì)成為繼PERC電池之后的行業(yè)熱點(diǎn)。

以N型單晶硅(C-Si)為襯底光吸收區(qū),經(jīng)過(guò)制絨清洗后,其正面依次沉積厚度為5-10nm的本征非晶硅薄膜(i-a-Si:H)和摻雜的P型非晶硅(P-a-Si:H),和硅襯底形成P-N異質(zhì)結(jié)。硅片的背面又通過(guò)沉積厚度為5-10nm的i-a-Si:H和摻雜的N型非晶硅(n-a-Si:H)形成背表面場(chǎng),雙面沉積的透明導(dǎo)電氧化物薄膜(TCO),最后通過(guò)絲網(wǎng)印刷在兩側(cè)的頂層形成金屬基電極,即為異質(zhì)結(jié)電池的典型結(jié)構(gòu)。

HJT因?yàn)楣怆娹D(zhuǎn)換效率高,雙面率高,設(shè)備工藝流程簡(jiǎn)化,產(chǎn)品光衰減低,穩(wěn)定性強(qiáng),降本增效空間大,技術(shù)層面,根據(jù)所使用硅片的不同,光伏電池片主要分為晶硅電池片(P型)和非晶硅薄膜電池片(N型),其中PERC是當(dāng)前的主流技術(shù)路徑,市占率在85%左右,但受制于本身光電轉(zhuǎn)換效率臨近天花板,業(yè)內(nèi)正在逐步嘗試使用具有更高光電轉(zhuǎn)換效率的HJT電池片來(lái)替代。
圖片
我國(guó)前三大光伏電池片廠商分別為愛(ài)旭股份、通威股份和隆基綠能,2021年合計(jì)市占率達(dá)36.5%。其中,通威股份在HJT電池方面是絕對(duì)龍頭,國(guó)內(nèi)市占率在20%以上。

HJT電池的實(shí)驗(yàn)室效率達(dá)到26%以上,現(xiàn)有主流廠商的平均量產(chǎn)效率達(dá)到23%。從效率來(lái)看的確比PERC電池要高出一個(gè)臺(tái)階。HJT電池工藝流程簡(jiǎn)潔,目前市場(chǎng)主流的電池技術(shù)PERC需要8-10道工序,而HJT技術(shù)只有四道工序,分別為清洗制絨、非晶硅薄膜沉積,TCO薄膜制備和絲網(wǎng)印刷。其中清洗制絨和絲網(wǎng)印刷都是傳統(tǒng)硅晶電池的工藝,HJT獨(dú)特的工藝在于非晶硅薄膜沉積和TCO膜的沉積。

原標(biāo)題:N型HJT儲(chǔ)能電池:降本利器
 
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