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技術(shù)整理:光伏發(fā)電原理和光伏電池片前沿技術(shù)
日期:2024-01-02   [復(fù)制鏈接]
責(zé)任編輯:sy_huamengqi 打印收藏評(píng)論(0)[訂閱到郵箱]
光伏電池片領(lǐng)域降本增效是推動(dòng)光伏產(chǎn)業(yè)不斷發(fā)展的內(nèi)在牽引力,其中以提升光電轉(zhuǎn)換效率為目標(biāo)的光伏電池片技術(shù)變革是推動(dòng)降本增效的關(guān)鍵舉措之一。2015年至2020年,光伏電池片經(jīng)歷了BSF到PERC的應(yīng)用技術(shù)迭代;2021年以來(lái),以TOPCon、XBC、HJT為代表的新型高效光伏電池片技術(shù)開(kāi)始逐步進(jìn)入規(guī)?;瘧?yīng)用階段。在光伏電池片技術(shù)的變革過(guò)程中,設(shè)備是支撐工藝和產(chǎn)能落地的基礎(chǔ)和核心,新設(shè)備技術(shù)需要均衡成本、性能等核心要素,因此設(shè)備廠商需要與下游客戶緊密配合,根據(jù)新的工藝特點(diǎn)提供兼顧成本、效率的系統(tǒng)性解決方案,具有較高的技術(shù)和產(chǎn)品壁壘。

比如在光伏電池片核心工藝設(shè)備方面,拉普拉斯利用核心技術(shù)應(yīng)用,通過(guò)不斷創(chuàng)新持續(xù)滿足下游客戶的多項(xiàng)需求,包括:

①使用氣態(tài)硼源,結(jié)合低壓氛圍、高溫等特點(diǎn)攻克工藝難題,率先實(shí)現(xiàn)硼擴(kuò)散設(shè)備規(guī)?;慨a(chǎn)和應(yīng)用,突破N型電池片量產(chǎn)工藝瓶頸;

②率先實(shí)現(xiàn)光伏級(jí)大產(chǎn)能LPCVD大規(guī)模量產(chǎn),可高質(zhì)量滿足高效光伏電池片隧穿氧化及摻雜多晶硅層制備的工藝需求;

③自研水平放片工藝,有效提升產(chǎn)能,滿足大硅片、薄硅片的生產(chǎn)需求,降低成本;

④自主設(shè)計(jì)和生產(chǎn)核心零部件熱場(chǎng),創(chuàng)造性地進(jìn)行非對(duì)稱設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控溫,提高光伏電池片效率和良率,并提升設(shè)備可靠性等。

光伏發(fā)電的基本原理

光生伏特效應(yīng)(即“光伏效應(yīng)”)是指當(dāng)物體受到光照時(shí),因光能被吸收,電子發(fā)生躍遷,物體內(nèi)的電荷分布狀態(tài)發(fā)生變化而產(chǎn)生電動(dòng)勢(shì)和電流的一種效應(yīng)。

根據(jù)半導(dǎo)體的特性,半導(dǎo)體中有電子和空穴兩種電流載體(指可以自由移動(dòng)的帶有電荷的物質(zhì)微粒,簡(jiǎn)稱“載流子”),其中電子帶負(fù)電、空穴帶正電,半導(dǎo)體材料中某種載流子占大多數(shù),則稱它為多子,占小部分的即為少子。硅片最基本的材料是“硅”,純凈的硅不導(dǎo)電,但可以通過(guò)在硅中摻雜來(lái)改變特性:在硅晶體中摻入硼元素,即可做成P型硅片;摻入磷元素,即可做成N型硅片。因硼元素和磷元素價(jià)位特點(diǎn)不同,P型硅片中空穴作為多子主要參與導(dǎo)電,電子是少數(shù)載流子(少子);N型硅片中電子作為多子主要參與導(dǎo)電,空穴是少子,上述P(Positive,正電)和N(Negative,負(fù)電)即根據(jù)硅片多子的正負(fù)電情況進(jìn)行的命名。

PN結(jié)(結(jié)是指交叉,譯自英文“PNjunction”)是光伏電池片的基本結(jié)構(gòu)單元,其通常形成于同一塊硅片中P型區(qū)域和N型區(qū)域的交界處,可以通過(guò)向P型硅片表面擴(kuò)散磷元素或者向N型硅片表面擴(kuò)散硼元素制得。

光伏電池片發(fā)電即是利用PN結(jié)位置產(chǎn)生的自由電子的電位差來(lái)產(chǎn)生電流,當(dāng)太陽(yáng)光照射在電池片表面時(shí),電子吸收能量變?yōu)橐苿?dòng)的自由電子,同時(shí)在原來(lái)的位置形成空穴,自由電子受到內(nèi)電場(chǎng)的作用會(huì)向N區(qū)移動(dòng),同時(shí)對(duì)應(yīng)空穴向P區(qū)移動(dòng),當(dāng)連接電池正負(fù)極形成閉合回路時(shí),自由電子受到內(nèi)電場(chǎng)的力從N區(qū)經(jīng)過(guò)導(dǎo)線向P區(qū)移動(dòng),在外電路產(chǎn)生電流。

影響光伏發(fā)電效率的核心要素

光伏發(fā)電的本質(zhì)是將光能轉(zhuǎn)化為電能,因此減少光學(xué)損失和電學(xué)損失是提升光伏電池片轉(zhuǎn)換效率的兩個(gè)關(guān)鍵方向。光學(xué)損失產(chǎn)生的主要原因是材料表面的反射及遮擋損失,包括電池片前表面和背表面的反射以及組件玻璃的反射、電池柵線的遮擋等。目前減少光學(xué)損失的主要方法包括:

①利用化學(xué)方法對(duì)硅片表面進(jìn)行腐蝕,形成絨面,增加陷光作用;

②制備減反膜降低反射率,例如玻璃減反膜、電池表面的氮化硅減反膜;

③優(yōu)化電池柵線,減少柵線遮擋損失,例如使用多主柵及新型高效的XBC電池技術(shù)。

目前,制絨、減反膜、多主柵等技術(shù)目前應(yīng)用已較為廣泛,發(fā)展較為成熟,XBC電池技術(shù)正在進(jìn)入快速發(fā)展階段,XBC電池的PN結(jié)和金屬接觸都處于電池的背面,正面沒(méi)有金屬電極遮擋的影響,同時(shí)背面可以容許較寬的金屬柵線來(lái)降低串聯(lián)電阻從而提高填充因子。

電學(xué)損失產(chǎn)生的主要原因是光伏電池片體內(nèi)及表面電子和空穴的復(fù)合,復(fù)合率越低,光電轉(zhuǎn)換效率就越高。電池片表面的表面態(tài)(懸掛鍵、雜質(zhì)、晶格失配和損傷層等)以及電池片內(nèi)部存在的雜質(zhì),它們都會(huì)成為載流子的復(fù)合中心。

對(duì)于解決材料本身的內(nèi)部缺陷及雜質(zhì)等引起的問(wèn)題,單晶硅要優(yōu)于多晶硅,N型電池要優(yōu)于P型電池;對(duì)于電池表面的復(fù)合中心,通過(guò)改變光伏電池的結(jié)構(gòu),如引入鈍化膜(主要為Al2O3、SiNx)、隧穿氧化及摻雜多晶硅層等方式,可以有效延長(zhǎng)電池片內(nèi)部少子壽命,減少?gòu)?fù)合導(dǎo)致的電學(xué)損失。

隨著單晶硅片已基本取代多晶硅片以及以Al2O3、SiNx為代表的鈍化膜技術(shù)在此前的PERC技術(shù)也已經(jīng)得到普遍應(yīng)用,在材料方面引入N型硅片襯底及電池片結(jié)構(gòu)方面進(jìn)一步加強(qiáng)鈍化效果(如引入隧穿氧化及摻雜多晶硅層)是目前進(jìn)一步降低電學(xué)損失的成熟有效方式,應(yīng)用該等改善材料和進(jìn)行結(jié)構(gòu)改變的包括了TOPCon、XBC及HJT等新型高效光伏電池片技術(shù)。

②具有多方面優(yōu)勢(shì)的N型光伏電池片技術(shù)已日趨成熟

光伏電池片的生產(chǎn)是以硅片為基礎(chǔ)材料,通過(guò)擴(kuò)散摻雜元素、多層鍍膜等多步驟處理后,形成基本發(fā)電單元的過(guò)程。其中,以P型硅片作為襯底通過(guò)磷元素?cái)U(kuò)散或摻雜最終制作出的電池片為P型電池片,代表性是基于PERC技術(shù)產(chǎn)品;以N型硅片作為襯底通過(guò)硼元素?cái)U(kuò)散或摻雜最終制作出的電池片為N型電池片,具有代表性的為N型TOPCon、N型IBC、N型HJT等新型高效光伏電池片。N型電池片相較于P型電池片具有較為顯著的優(yōu)勢(shì):

A、高轉(zhuǎn)換效率:N型電池片的少數(shù)載流子壽命顯著高于P型電池,能夠極大提升電池的開(kāi)路電壓和短路電流,帶來(lái)更高電池轉(zhuǎn)化效率,如N型TOPCon的轉(zhuǎn)換效率理論可達(dá)28.7%,顯著高于PERC的24.5%;

B、低衰減率:N型電池片襯底硅片主要摻入磷元素,在材料中不會(huì)形成硼氧原子對(duì)(導(dǎo)致P型電池光致衰減的主要因素),因而N型電池片的初始光誘導(dǎo)衰減幾乎為零,整體衰減率較低;

C、弱光效應(yīng)好:N型電池片弱光條件下光譜響應(yīng)好,提升早晚等弱光情況下的發(fā)電能力;

D、高雙面率:雙面率高達(dá)85%以上,有效提升發(fā)電增益;E、低溫度系數(shù):傳統(tǒng)P型電池片溫度每升高一度,輸出功率就降低0.4%~0.5%,而N型電池溫片度系數(shù)僅有前者一半左右,發(fā)電量顯著高于P型電池片。

從光伏電池片技術(shù)降本增效的發(fā)展目標(biāo)和趨勢(shì)來(lái)看,在解決了生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)攻關(guān)、生產(chǎn)工藝提升、成本優(yōu)化等關(guān)鍵問(wèn)題后,TOPCon和XBC兩種技術(shù)路線下的N型電池片已實(shí)現(xiàn)落地量產(chǎn),其中已量產(chǎn)TOPCon的代表性主流廠商包括晶科能源、鈞達(dá)股份、中來(lái)股份等,已量產(chǎn)或投產(chǎn)XBC的廠商為愛(ài)旭股份及隆基綠能。

低壓水平硼擴(kuò)散技術(shù)

N型光伏電池片具有高轉(zhuǎn)換效率、低衰減率、弱光效應(yīng)好和低溫度系數(shù)等優(yōu)勢(shì),但是,N型硅片需要在硅片表面擴(kuò)散硼元素以達(dá)到形成PN結(jié)的目的,而硼擴(kuò)散設(shè)備一直是困擾N型光伏電池片量產(chǎn)的難題,所以最早大規(guī)模量產(chǎn)的單晶硅電池是P型的PERC。

硼原子相對(duì)于其擬擴(kuò)散進(jìn)入的襯底硅原子而言,原子質(zhì)量較小,對(duì)硅原子的替代需要更高的能量,硼擴(kuò)散工藝相對(duì)于磷擴(kuò)散需要的溫度更高(由850℃上升至1050℃左右),且擴(kuò)散時(shí)間長(zhǎng),工藝難度大,設(shè)備維護(hù)費(fèi)用高。

行業(yè)內(nèi)原有工藝采用三溴化硼作為擴(kuò)散硼源,通過(guò)氮?dú)鈹y源的方式通入設(shè)備,其通入狀態(tài)為小液滴,在擴(kuò)散過(guò)程中,容易造成硼源在硅片表面分布不均勻,導(dǎo)致形成的PN結(jié)不均勻,同時(shí)產(chǎn)生的副產(chǎn)物為粘稠狀物質(zhì),設(shè)備需要頻繁維護(hù),稼動(dòng)率低,運(yùn)營(yíng)成本極高,難以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn),主要用于研發(fā)。

低壓水平硼擴(kuò)散技術(shù),很好地解決了前述技術(shù)瓶頸:

①采用三氯化硼作為擴(kuò)散硼源,在一定溫度下通過(guò)飽和蒸汽壓的方式通入設(shè)備,通入狀態(tài)為氣態(tài),擴(kuò)散過(guò)程中硼源在硅片表面分布均勻,形成更均勻的PN結(jié),解決N型電池PN結(jié)制備均勻性較差的難題;

②使用氣態(tài)三氯化硼作為摻雜源,與傳統(tǒng)三溴化硼液態(tài)源硼擴(kuò)散相比,在設(shè)備營(yíng)造的特殊反應(yīng)氛圍下,副產(chǎn)物為粉末狀的氧化硼,石英管壽命長(zhǎng)、維護(hù)費(fèi)用低、運(yùn)營(yíng)成本低。

TOPCon電池片由PERC電池片的基礎(chǔ)架構(gòu)升級(jí)而來(lái),主要差別在于硼擴(kuò)散與隧穿氧化及摻雜多晶硅層的制備:

A由于襯底硅片由P型變?yōu)镹型,所以需要在襯底表面進(jìn)行硼擴(kuò)散以制備P+發(fā)射極;

B背面由隧穿氧化及摻雜多晶硅層構(gòu)成,以多晶硅層的制備方式劃分,主要分為三種技術(shù)路線,分別為L(zhǎng)PCVD、PECVD及PVD,其中LPCVD相較于PECVD、PVD在技術(shù)成熟度、成膜質(zhì)量(均勻性好、致密度高)方面具有優(yōu)勢(shì),隨著石英管壽命的提升以及雙插工藝(雙插,即一個(gè)舟齒放置兩塊硅片,相較于單插,硅片放置量提升一倍)的不斷成熟,LPCVD已成為下游客戶的主流選擇。除上述外,TOPCon生產(chǎn)過(guò)程涉及的其他設(shè)備則與PERC大體相同,主要環(huán)節(jié)包括清洗制絨、刻蝕、正面氧化鋁(Al2O3)沉積、雙面氮化硅(SiNx)沉積、絲網(wǎng)印刷等。

XBC電池片制造工序較PERC差異較大,但也需要使用LPCVD制備隧穿氧化和摻雜多晶硅層,N型XBC則還需要硼擴(kuò)散設(shè)備進(jìn)行硼摻雜。

②硼擴(kuò)散設(shè)備是制備N(xiāo)型電池片PN結(jié)的主要設(shè)備

N型光伏電池片具有高轉(zhuǎn)換效率、低衰減率、弱光效應(yīng)好和低溫度系數(shù)等優(yōu)勢(shì),但是,N型硅片需要在硅片表面擴(kuò)散硼元素以達(dá)到形成PN結(jié)的目的,而硼擴(kuò)散設(shè)備一直是困擾N型光伏電池片量產(chǎn)的難題。

硼原子相對(duì)于其擬擴(kuò)散進(jìn)入的襯底硅原子而言,原子質(zhì)量較小,對(duì)硅原子的替代需要更高的能量,硼擴(kuò)散工藝相對(duì)于磷擴(kuò)散需要的溫度更高(由850℃上升至1050℃左右),且擴(kuò)散時(shí)間長(zhǎng),工藝難度大,設(shè)備維護(hù)費(fèi)用高。行業(yè)內(nèi)原有工藝采用三溴化硼作為擴(kuò)散硼源,通過(guò)氮?dú)鈹y源的方式通入設(shè)備,其通入狀態(tài)為小液滴,在擴(kuò)散過(guò)程中,容易造成硼源在硅片表面分布不均勻,導(dǎo)致形成的PN結(jié)不均勻,同時(shí)產(chǎn)生的副產(chǎn)物為粘稠狀物質(zhì),設(shè)備需要頻繁維護(hù),稼動(dòng)率低,運(yùn)營(yíng)成本極高,難以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn),主要用于研發(fā)。

低壓水平硼擴(kuò)散技術(shù),很好地解決了前述技術(shù)瓶頸:

A采用三氯化硼作為擴(kuò)散硼源,在一定溫度下通過(guò)飽和蒸汽壓的方式通入設(shè)備,通入狀態(tài)為氣態(tài),擴(kuò)散過(guò)程中硼源在硅片表面分布均勻,形成更均勻的PN結(jié),解決N型電池PN結(jié)制備均勻性較差的難題;

B使用氣態(tài)三氯化硼作為摻雜源,與傳統(tǒng)三溴化硼液態(tài)源硼擴(kuò)散相比,在設(shè)備營(yíng)造的特殊反應(yīng)氛圍下,副產(chǎn)物為粉末狀的氧化硼,石英管壽命長(zhǎng)、維護(hù)費(fèi)用低、運(yùn)營(yíng)成本低。

③LPCVD是制備高質(zhì)量隧穿氧化及摻雜多晶硅層的成熟設(shè)備

目前N型電池片隧穿氧化及摻雜多晶硅層制備的技術(shù)路線分為L(zhǎng)PCVD方案(LPCVD+磷擴(kuò)散設(shè)備)、PECVD方案(PECVD+退火)、PVD方案(PVD+退火)。LPCVD憑借技術(shù)成熟、成膜質(zhì)量高、產(chǎn)能大等優(yōu)點(diǎn)成為下游客戶最主流的解決方案;PECVD方案則在成膜效率方面具有一定優(yōu)勢(shì),部分廠商也進(jìn)行了采納;少部分廠商基于PVD低繞鍍等優(yōu)勢(shì)則選擇了PVD方案。

在未將光伏級(jí)大產(chǎn)能LPCVD推向市場(chǎng)之前,主要行業(yè)痛點(diǎn)在于:

ALPCVD原成熟應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域,但光伏相對(duì)于半導(dǎo)體的成本控制要求更高,隧穿氧化及摻雜多晶硅層對(duì)光伏電池片轉(zhuǎn)換效率提升帶來(lái)的收益與相應(yīng)增加的工序成本相比較必須具有經(jīng)濟(jì)性,此外還有大產(chǎn)能的需求,對(duì)于結(jié)構(gòu)構(gòu)造、工藝設(shè)計(jì)提出了特殊的要求;B

石英管損耗較高,增加了生產(chǎn)成本;C鍍膜均勻度較差。

拉普拉斯結(jié)合上述痛點(diǎn)創(chuàng)造性地進(jìn)行了氣流控制設(shè)計(jì)、載片設(shè)計(jì)、非對(duì)稱熱場(chǎng)設(shè)計(jì)、硅片載具的創(chuàng)新設(shè)計(jì)、自適應(yīng)串級(jí)溫控設(shè)計(jì)、優(yōu)化設(shè)備結(jié)構(gòu)延長(zhǎng)石英管壽命和提升產(chǎn)能,并自研新型石英管涂層技術(shù)進(jìn)一步延長(zhǎng)石英壽命,完成了光伏級(jí)大產(chǎn)能LPCVD的量產(chǎn)落地,為客戶產(chǎn)品中隧穿氧化及摻雜多晶硅層制備提供成熟的LPCVD解決方案。

原標(biāo)題:技術(shù)整理:光伏發(fā)電原理和光伏電池片前沿技術(shù)
 
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