中國科學院上海硅酸鹽研究所先進材料與新能源應用研究團隊與北京大學和天津理工大學等共同合作研究,提出將原子級分布的硅/鍺/錫引入結構空曠的剛性導電框架中,通過調(diào)整化學鍵強弱,優(yōu)化晶體結構排列,構建了一種具有高容量、高倍率性能的鈉離子電池負極材料GeTiS3。原子級Ge為“化學剪刀”實現(xiàn)其在Ti-S框架中的均勻分散。結合了Ge基負極材料高容量以及TiS2負極材料高倍率的特性。在低電流下可逆容量達到 678 mAh g-1,在32 C超高倍率下循環(huán)10000次容量保持率接近100 %。該負極材料的結構設計策略可推廣到Si、Sb、Sn等合金化型負極材料設計和制備中。
GeTiS3的晶體結構由封端Ge原子和邊共享的TiS6八面體組成,形成雙鏈結構。掃描電子顯微鏡(SEM)表明得到的GeTiS3呈現(xiàn)微米級的棒狀形貌。沿[100]區(qū)域軸的SAED圖顯示出不同的衍射點,這些衍射點對應到正交GeTiS3的(0-13)、(0-11)、(0-1-1)和(004)面。沿[100]方向的ADF和ABF成像表明,局域原子分布和晶體結構與正交GeTiS3相一致。
對比GeTiS3、TiS2和Ge-C,在0.3C的電流密度下,GeTiS3表現(xiàn)出最高的容量646.8 mAh g-1。此外,GeTiS3表現(xiàn)出更優(yōu)的倍率性能,在16C下,仍保持227 mAh g-1。在電流密度為3、8、16和32 C時,GeTiS3負極表現(xiàn)了出色的長循環(huán)性能。為進一步探究GeTiS3的反應動力學,在0.2 ~ 2.5 mV s-1的掃描速率下進行了CV測試。對應的log(i)和log(v)之間進行線性擬合,峰1和峰2的b值分別為0.86和0.53,表明GeTiS3負極在1.5 V和2.1 V時分別表現(xiàn)出了贗電容和擴散控制的行為。在掃描速率為1 mV s-1時,CV曲線的陰影部分占總容量的57 %。在循環(huán)過程中贗電容和擴散控制共存,然而大多數(shù)Na+在GeTiS3中的存儲可以歸因于擴散控制過程。GeTiS3的Na+擴散系數(shù)最大為9.1 × 10-11 cm2 s-1。電化學阻抗譜(EIS)進一步表明GeTiS3具有比Ge-C、Ge-TiS2和TiS2更小的電荷轉移電阻,表明GeTiS3具有增強的反應動力學。
相關研究成果以“Tailoring Ultrafast and High-Capacity Sodium Storage via a Binding Energy-Driven Atomic Scissor”為題發(fā)表于Advanced Materials期刊。論文第一作者為上海硅酸鹽所博士研究生彭柏鑫、呂卓然及助理研究員許樹茂博士,通訊作者為上海硅酸鹽所黃富強研究員和天津理工大學董辰龍博士。
論文工作得到國家重點研發(fā)計劃項目(No. 2019YFA0210600)、國家自然科學基金(No. 51922103,No. 51972326)等項目的資助和支持。
GeTiS3設計思路以及結構表征
GeTiS3的電化學性能測試
原標題:上海硅酸鹽所在超快鈉存儲的鈉離子電池負極研究方面取得新進展